■日時：2026年5月21日(木)13:00～16:00

■会場：ライブ配信
※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です。
※お申し込み前に、本案内末尾の「ライブ配信分析講座のご案内」をご確認ください。
※大学生・大学院生は、無料で受講いただけますので是非ご検討ください。
　学生のお申し込みはこちら（主催者：東レリサーチセンターへリンクします）
　https://www.toray-research.co.jp/service/seminar/student.html

■定員：20名

■受講料：44,000円(税込、テキスト費用を含む)

■主催：株式会社東レリサーチセンター

■講師：株式会社東レリサーチセンター　研究部門　主任研究員　宮田 洋明
　　　　株式会社東レリサーチセンター　研究部門　主席研究員　柴森 孝弘

■講座概要：
デバイスの微細化、異種材料の複合化などの進展に伴い、材料の表面・界面の制御が重要になりつつあります。
材料の表面・界面の制御には、その性質を左右する数nm以下の領域を選択的に分析することが必要であり、
試料全体を対象とする通常のバルク分析では有用な情報を得ることが困難です。表面分析はこの様な要請に
応えるために開発された、深さ10nmから1nmの領域に敏感な分析手法です。
本講座では、表面の組成や化学構造、官能基の分析手法として広く用いられている、X線光電子分光法（XPS / ESCA）[1]、
飛行時間型２次イオン質量分析法（TOF-SIMS）[2]について、両手法の原理と特徴、応用事例を紹介します。

[1] X線光電子分光法（XPS / ESCA）：無機物や有機物、高分子などの材料表面中に存在する水素,ヘリウムを除く
すべての元素の組成と化学結合状態を評価する手法。エッチングを併用することで、無機物や有機物の深さ方向分析や、
気相化学修飾法を適用することで、有機材料のカルボキシル基・水酸基・第１ｱﾐﾝなどの検出・定量も可能。
他、仕事関数など電子状態の解析も可能。

[2] 飛行時間型２次イオン質量分析法（TOF-SIMS）：材料の極最表面における微小部（～数μm）の微量有機物
および無機物の定性分析を行う手法で、微量表面汚染物や異物の分析に有効。
絶対量の定量は困難だが、検出された化合物の存在量を試料間比較することが可能。
ガスクラスターイオンビーム（GCIB）を併用することで、有機物においても表面ダメージを抑えた、深さ分析が可能。


■カリキュラム：
1.表面分析の概要

2.X線光電子分光法（XPS / ESCA）とは
　1：XPSの原理と特徴
　2：XPSの装置と測定・解析
　3：気相化学修飾法による官能基の定量
　4：角度分解法およびイオンエッチングによる深さ方向分析
　5：XPS分析の応用事例

3.飛行時間型２次イオン質量分析法（TOF-SIMS）とは
　1：TOF-SIMSの原理と特徴
　2：TOF-SIMSの装置と測定・解析
　3：TOF-SIMSによる高分子材料（工業材料）の分析
　4：TOF-SIMSによる生体材料の分析
　5：GCIB-TOF-SIMSによる深さ方向分析

4.各種分析手法を用いた総合解析事例


■ライブ配信講座のご案内：
　ライブ配信分析講座とは？
　・本講座はコミュニケーションツール「Teams」を使ったライブ配信のウェビナー(オンラインセミナー)となります。
　・講座開催日時に、ウェビナー参加用 Teams URLにログインしていただき、ご視聴頂きます。
　　
　お申込み後の流れ
　・開催日時前に、申込み頂いたメールアドレスに分析講座参加用のTeams URLをお送りいたします。
　※参加用URLは本講座に申込み頂いた方共通となります。相互に受講者の方の実名がわからない様、弊社で各参加者の氏名、アドレスを非表示とさせていただきます。
　・事前配布資料は、当日までにPDFファイルで配布しますが、参加者のみのご利用に限定いたします。他の方への転送、WEBへの掲載などは固くお断りいたします。
　
　注意事項
　・インターネット経由でのライブ中継ですので、回線状態などにより、画像や音声が乱れる場合があります。また、状況によっては、講義を中断し、再接続して再開する場合がありますが、予めご了承ください。
　・万が一、当社のインターネット回線状況や設備機材の不具合により、開催を中止した場合には、受講料の返金や、状況により後日録画を提供すること等で対応させて頂きます。
　・受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
　・同業社からのお申し込みはご遠慮願います。
　・キャンセルはセミナー開催日1週間前までお受けいたします。
　　ご都合により受講できなくなった場合は代理の方が受講してください。