■日時：2026年05月21日(木) 10:30-16:30 

■会場：※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です
※　お申込み時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ず、ご確認ください。

■定員：30名

■受講料：【1名の場合】49,500円(税込、資料作成費用を含む)
　※複数でのご参加を希望される場合、お申込み追加1名ごとに16,500円が加算となります

■主催：(株)AndTech

■講師：
豊橋技術科学大学　 電気・電子情報工学系 / 教授　 松田　厚範　氏 

■講演主旨：
　ゾル－ゲル法は、ガラス、セラミックス、無機有機ハイブリッド、あるいはナノコンポジットを液相から合成する優れた方法です。本方法によれば、バルク体、メンブレイン、ファイバ、コーティング薄膜あるいは微粒子など、種々の形状の機能性材料を作製することができます。特に、薄膜は基板の表面高機能化技術として実用性も高く注目されています。また、イオン伝導体の合成や電気化学素子の構築にも有用です。
　本セミナーでは、「ゾルゲル法による機能性材料の創製と応用」と題して、ゾル－ゲル法の基礎・物性制御、高機能薄膜、多孔体、パターニング、電気化学材料などについて、我々の研究成果を中心に詳しく解説いたします。

■習得できる知識：
　・ゾル-ゲル法の基礎
　・ゾル-ゲル法の薄膜技術：撥水・親水コーティング、マイクロ・ナノパターニング、
　・ゾル-ゲル法によるイオン伝導性材料と電気化学素子：プロトン伝導体、リチウムイオン伝導体、燃料電池、全固体電池
　・ゾル-ゲル技術の研究開発動向

■プログラム：
１．ゾル-ゲル法の基礎
　1.1 ゾル-ゲルプロセスと特徴
　1.2 ゾル-ゲル法によるガラスの合成
　1.3 ゾル-ゲル法によるコーティング膜の作製
　1.4 ゾル-ゲル法によるセラミックスの合成
　1.5 ゾル-ゲル法による無機‐有機複合体の合成
　1.6 ゾル-ゲル法による多孔体の合成
　1.7 インデンテーション法によるゲル膜の力学物性評価

２．ゾル-ゲル法による撥水、親水コーティング
　2.1 親水・撥水の基礎知識
　2.2 チタニアナノ微結晶分散薄膜の低温合成と光触媒・防曇などへの応用
　2.3 外場を用いたナノ微結晶薄膜の組織制御
　2.4 アナターゼ分散メソポーラス薄膜の低温合成
　2.5 フリップ-フロップ機構による撥水性・水中撥油性表面の設計
　2.6 撥水性と光触媒活性を兼ね備えた高機能表面の設計
　2.7 液相成膜を用いたエレクトロウェッティング

３．ゾル-ゲル法によるマイクロ・ナノパターニング
　3.1 ゾル-ゲル微細加工プロセスの基礎知識
　3.2 マイクロ・ナノインプリント技術によるパターニング
　3.3 フォトリソマイクロ・ナノパターニング
　3.4 固体表面の濡れ性を用いた新規なパターニングプロセス
　3.5 無機-有機ハイブリッド膜の光誘起構造変化を利用したパターニング
　3.6 銀含有無機-有機ハイブリッドゲル膜のホログラム記録材料への応用
　3.7 液相からの相分離型マルチフェロイック材料の作製

４．ゾル-ゲル法によるイオン伝導性材料の作製と電気化学素子への応用
　4.1 固体中におけるイオン伝導の基礎
　4.2 中温低加湿条件で高い導電率を示すホスホシリケートゲル
　4.3 プロトン伝導性無機－有機複合体シートを用いた中温作動型燃料電池
　4.4 ゾル-ゲル法と交互積層法によるプロトン伝導性コア-シェル粒子の作製
　4.5 水酸化物イオン伝導性固体電解質
　4.6 水酸化物イオン伝導性固体電解質を用いた全固体金属/空気二次電池
　4.7 液相加振法による硫化物系リチウムイオン伝導体の作製と全固体リチウムイオン電池への応用
　4.8 液相加振法による硫化物系ナトリウムイオン伝導体の作製

５．複合酸化物ゲルのメカニカルミリング処理による新規複合体の合成（時間の許す範囲で紹介）

６．まとめと今後の展望

質疑応答