ポリマーフロンティア21シリーズNo.25 光を操る高分子・光が操る高分子 ~次世代材料の可能性を探る~
978-4-86043-113-6 C3043
¥27,280 (税込)
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- 発行所:(株)エヌ・ティー・エス
◆ 書籍概要 ◆
発刊日:2006年2月3日
頁 数:220頁
造 本:B5
発行所:(株)エヌ・ティー・エス
ISBN :978-4-86043-113-6 C3043
■主な目次 著者 ●序文 山之内淳一(富士写真フイルム) 1 フォトニック結晶としての液晶とデバイス 竹添 秀男(東京工業大学) 2 構造色の世界 生物が作るナノ構造 木下 修一(大阪大学) 3 ホログラフィック記録再生技術 金子 和(オプトウエア) 4 重合性液晶と光配向膜 高津 晴義(大日本インキ化学工業) 5 高屈折率熱硬化性樹脂 堀越 裕(三菱ガス化学) 6 最新フォトポリマー設計技術 白井 正充(大阪府立大学)
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●序文 1 フォトニック結晶としての液晶とデバイス 1 はじめに 1.1 フォトニック効果とは 2 コレステリック液晶からのレージング 2.1 分布帰還型レーザー 2.2 異方的欠陥層によるレージング 2.3 しきい値を下げるための試み 3 コレステリック液晶を用いた光ダイオード 3.1 原理、シミュレーション、実験 3.2 光ダイオードへの期待 2 構造色の世界 生物が作るナノ構造 1 構造色とは 1.1 薄膜干渉 1.2 多層膜干渉 1.3 散乱 1.4 フォトニック結晶 2 モルフォチョウ 2.1 モルフォチョウとは 2.2 モルフォチョウはなぜ青く光るか 2.3 モルフォチョウの翅の構造 2.4 回折格子を手がかりに 2.5 モデルによる確認 2.6 まだ残る疑問点 2.7 モルフォチョウの構造色のまとめ 3 モルフォチョウの構造色を再現する 3.1 モルフォチョウの構造モデル 4 自然界の構造色 4.1 多層膜干渉 4.2 フォトニック結晶 4.3 制御された散乱を用いた構造色 4.4 白、黒を際立たせる構造 4.5 回折格子の構造色 5 ツヤ、質感の再現 3 ホログラフィック記録再生技術 1 はじめに 2 次世代光ディスクとしてのホログラフィックストレージ 3 ホログラフィックストレージを実現するコリニアテクノロジー 3.1 コリニアホログラフィーの記録方式 3.2 記録・再生のシークエンス 3.3 サーボ光としての赤色光 3.4 大容量化 3.5 コリニアホログラフィックドライブの光学系 3.6 標準化に向けて 4 コリニアホログラムに要求される材料 4.1 ホログラフィック記録材料 4.2 フォトポリマーに要求される性能 4.3 評価機器とその実例 4.4 光反応による材料の収縮 4.5 記録特性の温度依存性 4.6 コリニア方式記録再生試験機を用いた材料評価 4.7 材料の寿命と安全性 4.8 コリニア方式ホログラフィックストレージシステム側から見た材料への要求特性 4 重合性液晶と光配向膜 1 はじめに 1.1 LCDの市場動向 1.2 LCD高性能化のための液晶―高分子複合体 2 重合性液晶とは 2.1 重合性液晶の特徴 2.2 重合性液晶の主要用途 3 重合性液晶の作製方法 3.1 フィルムの作製 3.2 液晶の配列制御 3.3 ねじれの制御 3.4 垂直制御、傾きの制御 3.5 硬化温度による位相差の制御 3.6 2段階照射による位相差の制御 3.7 温度依存性を持つ位相差フィルム 3.8 インセルリターダーへの応用 4 アゾ染料系光配向膜材料 4.1 アゾ染料SDI 4.2 重合性アゾ染料 4.3 特徴 4.4 今後の課題 5 高屈折率熱硬化性樹脂 1 はじめに 高屈折率、高アッベ数の必要性 1.1 屈折率について 1.2 アッベ数 1.3 屈折率とアッベ数との関係 2 プラスチックの分子構造からの屈折率、アッベ数の推算 2.1 屈折率の推算 2.2 分子構造からのアッベ数の推算 3 プラスチックレンズの高屈折率化の手法 4 眼鏡用プラスチックレンズの高屈折率、高アッベ数化の歴史 4.1 初の眼鏡用プラスチックレンズ材料 4.2 高屈折率材料(1) 4.3 高アッベ数材料(1) 4.4 高アッベ数材料(2) 4.5 高屈折率材料(2) 5 近年のレンズの高屈折率化 5.1 ポリマー設計からの考察 5.2 モノマーからの考察 5.3 材料設計 5.4 開発材料の物性、特徴 6 プラスチックレンズの市場 7 今後の樹脂の高屈折率化の動向 7.1 芳香環導入 7.2 硫黄の高含有率化 7.3 金属や半金属原子の導入 7.4 今後の展開 6 最新フォトポリマー設計技術 1 はじめに 2 半導体用フォトレジスト 2.1 KrFレジスト 2.2 ArFレジスト 2.2.1 ArFレジストの課題 2.2.2 ネガ型レジスト 2.2.3 ラフネスを減らすために 2.3 液浸リソグラフィー 2.4 EB、EUVレジスト材料 2.5 分子レジスト 2.6 光酸発生剤 3 光架橋、硬化樹脂 3.1 環境対応型光重合開始剤 3.2 酸素阻害を受けない硬化系 3.3 高機能と環境調和を図った再溶解型光架橋・硬化樹脂 6 まとめ
執筆者一覧を表示
山之内淳一 富士写真フイルム株式会社R&D統括本部先進コア技術研究所研究担当部長 竹添 秀男 東京工業大学大学院理工学研究科有機・高分子物質専攻教授 木下 修一 大阪大学大学院生命機能研究科教授 金子 和 株式会社オプトウエア技術開発グループ主幹研究員 高津 晴義 大日本インキ化学工業株式会社液晶材料技術本部技術本部長 堀越 裕 三菱ガス化学株式会社東京研究所研究グループ副主任研究員 白井 正充 大阪府立大学大学院工学研究科応用化学分野教授
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