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ポリマーフロンティア21シリーズNo.25 光を操る高分子・光が操る高分子 ~次世代材料の可能性を探る~

ポリマーフロンティア21シリーズNo.25 光を操る高分子・光が操る高分子 ~次世代材料の可能性を探る~

978-4-86043-113-6 C3043

¥27,280 (税込)

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発行所:(株)エヌ・ティー・エス
   

◆ 書籍概要 ◆


発刊日:2006年2月3日
頁 数:220頁
造 本:B5
発行所:(株)エヌ・ティー・エス
ISBN :978-4-86043-113-6 C3043


■主な目次 著者
●序文	山之内淳一(富士写真フイルム)
1 フォトニック結晶としての液晶とデバイス	竹添 秀男(東京工業大学)
2 構造色の世界 生物が作るナノ構造	木下 修一(大阪大学)
3 ホログラフィック記録再生技術	金子  和(オプトウエア)
4 重合性液晶と光配向膜	高津 晴義(大日本インキ化学工業)
5 高屈折率熱硬化性樹脂	堀越  裕(三菱ガス化学)
6 最新フォトポリマー設計技術	白井 正充(大阪府立大学)


詳細目次を表示
●序文

1 フォトニック結晶としての液晶とデバイス
1 はじめに
1.1 フォトニック効果とは
2 コレステリック液晶からのレージング
2.1 分布帰還型レーザー
2.2 異方的欠陥層によるレージング
2.3 しきい値を下げるための試み
3 コレステリック液晶を用いた光ダイオード
3.1 原理、シミュレーション、実験
3.2 光ダイオードへの期待

2 構造色の世界 生物が作るナノ構造
1 構造色とは
1.1 薄膜干渉
1.2 多層膜干渉
1.3 散乱
1.4 フォトニック結晶
2 モルフォチョウ
2.1 モルフォチョウとは
2.2 モルフォチョウはなぜ青く光るか
2.3 モルフォチョウの翅の構造
2.4 回折格子を手がかりに
2.5 モデルによる確認
2.6 まだ残る疑問点
2.7 モルフォチョウの構造色のまとめ
3 モルフォチョウの構造色を再現する
3.1 モルフォチョウの構造モデル
4 自然界の構造色
4.1 多層膜干渉
4.2 フォトニック結晶
4.3 制御された散乱を用いた構造色
4.4 白、黒を際立たせる構造
4.5 回折格子の構造色
5 ツヤ、質感の再現

3 ホログラフィック記録再生技術
1 はじめに
2 次世代光ディスクとしてのホログラフィックストレージ
3 ホログラフィックストレージを実現するコリニアテクノロジー
3.1 コリニアホログラフィーの記録方式
3.2 記録・再生のシークエンス
3.3 サーボ光としての赤色光
3.4 大容量化
3.5 コリニアホログラフィックドライブの光学系
3.6 標準化に向けて
4 コリニアホログラムに要求される材料
4.1 ホログラフィック記録材料
4.2 フォトポリマーに要求される性能
4.3 評価機器とその実例
4.4 光反応による材料の収縮
4.5 記録特性の温度依存性
4.6 コリニア方式記録再生試験機を用いた材料評価
4.7 材料の寿命と安全性
4.8 コリニア方式ホログラフィックストレージシステム側から見た材料への要求特性

4 重合性液晶と光配向膜
1 はじめに
1.1 LCDの市場動向
1.2 LCD高性能化のための液晶―高分子複合体
2 重合性液晶とは
2.1 重合性液晶の特徴
2.2 重合性液晶の主要用途
3 重合性液晶の作製方法
3.1 フィルムの作製
3.2 液晶の配列制御
3.3 ねじれの制御
3.4 垂直制御、傾きの制御
3.5 硬化温度による位相差の制御
3.6 2段階照射による位相差の制御
3.7 温度依存性を持つ位相差フィルム
3.8 インセルリターダーへの応用
4 アゾ染料系光配向膜材料
4.1 アゾ染料SDI
4.2 重合性アゾ染料
4.3 特徴
4.4 今後の課題

5 高屈折率熱硬化性樹脂
1 はじめに 高屈折率、高アッベ数の必要性
1.1 屈折率について
1.2 アッベ数
1.3 屈折率とアッベ数との関係
2 プラスチックの分子構造からの屈折率、アッベ数の推算
2.1 屈折率の推算
2.2 分子構造からのアッベ数の推算
3 プラスチックレンズの高屈折率化の手法
4 眼鏡用プラスチックレンズの高屈折率、高アッベ数化の歴史
4.1 初の眼鏡用プラスチックレンズ材料
4.2 高屈折率材料(1)
4.3 高アッベ数材料(1)
4.4 高アッベ数材料(2)
4.5 高屈折率材料(2)
5 近年のレンズの高屈折率化
5.1 ポリマー設計からの考察
5.2 モノマーからの考察
5.3 材料設計
5.4 開発材料の物性、特徴
6 プラスチックレンズの市場
7 今後の樹脂の高屈折率化の動向
7.1 芳香環導入
7.2 硫黄の高含有率化
7.3 金属や半金属原子の導入
7.4 今後の展開

6 最新フォトポリマー設計技術
1 はじめに
2 半導体用フォトレジスト
2.1 KrFレジスト
2.2 ArFレジスト
2.2.1 ArFレジストの課題
2.2.2 ネガ型レジスト
2.2.3 ラフネスを減らすために
2.3 液浸リソグラフィー
2.4 EB、EUVレジスト材料
2.5 分子レジスト
2.6 光酸発生剤
3 光架橋、硬化樹脂
3.1 環境対応型光重合開始剤
3.2 酸素阻害を受けない硬化系
3.3 高機能と環境調和を図った再溶解型光架橋・硬化樹脂
6 まとめ


執筆者一覧を表示

山之内淳一	富士写真フイルム株式会社R&D統括本部先進コア技術研究所研究担当部長
竹添 秀男	東京工業大学大学院理工学研究科有機・高分子物質専攻教授
木下 修一	大阪大学大学院生命機能研究科教授
金子  和	株式会社オプトウエア技術開発グループ主幹研究員
高津 晴義	大日本インキ化学工業株式会社液晶材料技術本部技術本部長
堀越  裕	三菱ガス化学株式会社東京研究所研究グループ副主任研究員
白井 正充	大阪府立大学大学院工学研究科応用化学分野教授


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